9月15日，中微半導體設備(上海)有限公司創始人、董事長、總經理尹志堯在一次活動中，就如何打造一家高質量、有競爭力的半導體設備公司進行了探討，并表示，半導體公司的設備可以分為四大類：掩膜版對準器、等離子刻蝕機、薄膜設備、測試設備。
以刻蝕機設備為例，等離子刻蝕設備市場增長迅速，年市場規模超過120億美元。而且等離子刻蝕設備已經在工廠投入了最大的一部分，占工廠設備成本的30%以上。
尹志堯提到，一定要把大力推動和發展半導體微加工設備產業提上日程。半導體設備公司不僅是集成電路制造的供應商和產業鏈，也是集成電路制造的核心部分。在高科技方面，大國博弈集中在半導體設備和關鍵元器件的限制上。
目前，微半導體研發的四類設備已達到國際領先水平，如CCP電容刻蝕機、ICP電感刻蝕機、深硅刻蝕機、MOCVCD。
其中，中偉研發的第三代CCP高能等離子刻蝕機，從過去的20:1，發展到如今的超高縱橫比孔隙中的60:1。此外，微CCP蝕刻機在臺灣省領先的晶圓廠和存儲廠占據了30%的市場份額。2018年第四季度，Micro MOCVD設備在國際氮化鎵基MOCVD中的市場份額已達到70%以上。
尹志堯表示，近十年來，國內已有54家公司和科研院所宣布了MOCVD設備的開發，但目前只有一家成功，并實現了穩定量產。多年來，微型MOCVD設備不斷提高藍色和綠色發光二極管的波長均勻性。目前，LED波長的片上均勻性已經達到0.71nm。
關于如何做大做強微型半導體，尹志堯表示，微型半導體聚焦“四個十強”，總結17年經驗教訓，持續制定科技型企業管理規則，包括：微型產品開發十大原則；微觀戰略和商業的十大原則；微管理十原則。
在開發產品時，尹志堯說，很難做出自己獨特的產品，因為它不應該總是遵循外國人的設計。因此，中衛提出了甚高頻去耦反應離子刻蝕，使高頻和低頻都在下電極上。目前，這項技術具有一定的優勢。
此外，中偉公司還開發了CCP單機雙機、ICP單機雙機，可覆蓋90%的刻蝕應用，不僅降低成本30%，還提高效率50%。
戰略上，中偉將在三個維度(集成電路設備、泛半導體設備和非半導體設備)成長，并計劃在未來10到15年內成為世界級的微加工設備公司。
在運營管理方面，中微通過運營KPI管理不斷提升質量管理水平，截至2021年6月，中微已申請專利1883項，獲得專利1115項。
尹志堯表示，雖然中偉在知識產權方面做得比較全面，但也多次被美國公司起訴，包括美國公司對中偉提起的3起訴訟和中偉對美國公司提起的1起訴訟。值得注意的是，在專利訴訟中，有兩次完全勝訴，另外兩次達成和解，優勢很大。
中微公司在等離子刻蝕機方面的技術優勢也使得美國在2015年取消了對華出口管制，中微公司相關產品的出口環境變得極為寬松。
值得注意的是，中微實施了員工期權激勵、全員持股的模式，被認為是高科技公司發展的生命線，是社會主義集體所有制的核心。尹志堯認為，企業的價格由投入的資本和勞動創造的價值兩部分組成，但公司80%的市場價值是勞動創造的。
不要忘記你的主動心態，是回歸“達斯K”
尹志堯提到自己只占公司1%的股份，但這并不代表他不能把公司做好。要把公司做大做強，就要把強勢集團的總能量和凈能量最大化。總能量最大化即使充分發揮各階級各部門的活躍人群，凈能量最大化也意味著如何使各階級各部門的能量不在內耗中消失。
最后，尹志堯表示，公司的文化和風格是一家公司從初創公司走向成功的主要原因。打造領先的百年老店，需要在初創期有過硬的技術產品，在大公司期有足夠的運營能力。要成為一家領先的公司，就要看公司的文化和風格。
行業資訊 
2021-10-21 18:20:22
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