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pcb線路板之干膜曝光工藝

2020-12-12 18:07:57

干膜曝光，即在紫外光照射下，光引發劑吸收光能分解成自由基，自由基重新引發光聚合單體
進行聚合交聯反應，反應后形成不溶于稀堿溶液的本體大分子結構。曝光通常在自動雙面曝光機中進行
現在的曝光機根據光源冷卻方式的不同，以及影響曝光成像質量的因素，可以分為風冷和水冷
除了干膜光光刻膠的性能外，光源的選擇、曝光時間(曝光量)的控制和感光板的質量都是關鍵
影響曝光成像質量

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