思銳智能攜旗下Beneq品牌亮相CIOE2021，探索從微觀到宏觀層面

2021-10-30 15:35:48

實際上，Beneq P系列設(shè)備是專門為工業(yè)規(guī)模生產(chǎn)設(shè)計的原子層沉積系統(tǒng)，包括P400A、P800和最新的P1500型號，均配備大容量反應(yīng)器，克服了ALD同類設(shè)備沉積速度慢、與大尺寸產(chǎn)品不兼容、難以大規(guī)模生產(chǎn)等局限性。是從研發(fā)階段到大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)的理想工具，可用于光學(xué)鍍膜、半導(dǎo)體設(shè)備零部件的鍍膜、有機(jī)發(fā)光二極管及電子器件的防潮鍍膜。此外，P系列設(shè)備還支持定制反應(yīng)室的配置選項，適用于各種基板。此外，反應(yīng)室易于更換，從而最大限度地減少了維護(hù)造成的停機(jī)時間。

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圖4: Sri展示其Beneq品牌P800 ALD設(shè)備型號。

除了P系列工業(yè)ALD設(shè)備外，新一代航天ALD設(shè)備也獲得了業(yè)界的廣泛關(guān)注。據(jù)悉，Beneq C2R設(shè)備屬于“第一個吃螃蟹者”，旋轉(zhuǎn)等離子體增強(qiáng)ALD(PEALD)工藝首次成功應(yīng)用于量產(chǎn)。這是一種ALD涂層解決方案，具有超快速的容量增長。由于貝內(nèi)克C2R設(shè)備采用旋轉(zhuǎn)PEALD工藝，沉積薄膜的厚度可達(dá)每小時幾微米。因此，在選擇沉積速率高、成本低、工藝溫度低、膜質(zhì)量最優(yōu)的ALD設(shè)備時，Beneq C2R是一個理想的選擇。

拓展ALD創(chuàng)新邊界，應(yīng)用Transform系列連桿激光雷達(dá)等微納光學(xué)系統(tǒng)涂層。

為應(yīng)對光電系統(tǒng)小型化、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的發(fā)展趨勢，ALD鍍膜技術(shù)不斷改進(jìn)和優(yōu)化，以滿足市場需求。以流行的激光雷達(dá)為例，雖然激光雷達(dá)系統(tǒng)具有不同類型的結(jié)構(gòu)，但關(guān)鍵部件如激光器和二極管、光學(xué)元件、基于固態(tài)激光雷達(dá)的波控、光電探測器和信號處理單元在制備過程中不可避免地需要ALD鍍膜工藝。

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圖5:5中的VCSEL器件：激光雷達(dá)系統(tǒng)需要復(fù)雜的鍍膜工藝才能實現(xiàn)功能完整性。

對此，陳驤龍表示：“先進(jìn)的ALD涂層技術(shù)可以最大限度地提高器件的光電性能和可靠性。Beneq Transform系列非常適合激光雷達(dá)等微納光電系統(tǒng)，其優(yōu)異的ALD鍍膜工藝仍能保持超高保形性、薄膜致密性、精確控制膜厚等諸多優(yōu)勢。我們致力于通過開發(fā)P系列、C2R系列、Transform系列、即將推出的GENESIS系列等豐富的產(chǎn)品線，將ALD科技推向新的高度，打破對ALD增長緩慢的固定思維，進(jìn)一步推動ALD科技進(jìn)入更產(chǎn)業(yè)化的應(yīng)用場景！”