2020年，年底和中國大陸首家芯片代工巨頭中芯國際的頂尖技術人才梁孟松，曾透露，公司的7nm研發(fā)工作已經完成，預計2021年4月進入高風險的試生產階段。
眾所周知，7納米工藝是晶圓制造領域的關鍵節(jié)點。如果中芯國際能夠成功實現大規(guī)模生產，就意味著中國大陸的芯片制造水平離國際先進水平更遠。
值得注意的是，在中芯國際加快升級進程的同時，一股“核心缺失潮”已經在全球掀起。
在2020年的年底，只有汽車行業(yè)面臨芯片短缺的問題。但是，2021年初以后，晶圓的短缺已經從汽車行業(yè)蔓延到智能手機和游戲機行業(yè)。
目前，汽車巨頭的很多工廠已經停工停產。美國突如其來的暴風雪讓本已稀缺的芯片市場雪上加霜。
中芯國際7納米工藝4月份進入風險試生產階段
但是，這恰恰是中國芯片企業(yè)發(fā)展的好機會。晶圓的短缺對產業(yè)鏈上游有利。一方面可以獲得比以前更多的訂單；另一方面也可以增加市場份額，掌握更多話語權。
前幾天，中芯國際的14nm工藝芯片被美國商務部批準出貨，高通和聯發(fā)科向中芯國際拋出橄欖枝，這是利好現象之一。
在這個關鍵時刻，中芯國際趁熱打鐵，斥資12億美元從ASML收購光刻機。
3月3日，中芯國際宣布，根據大宗采購協(xié)議，該公司已與荷蘭阿斯麥集團簽署了一份從2020年3月16日至2021年3月2日的12個月期間價值12億美元的采購訂單。
我知道根據中芯國際公司和阿斯麥，之間的大宗采購協(xié)議，前者需要向阿斯麥支付30%的首付款。剩余款項將在交貨時支付。
要知道，由于《瓦納森協(xié)定》及相關因素的影響，阿斯麥目前無法向中國企業(yè)出口EUV 光刻機。
因此，中芯國際購買的價值12億美元的光刻機只能是DUV 光刻機
與EUV 光刻機， DUV相比，光刻機很難幫助中芯國際繼續(xù)推動7納米及以下高精度工藝的研發(fā)。但是，DUV 光刻機可以在很大程度上在中芯擴大國際成熟技術的生產線，起到提高產能的作用。
盡管EUV 光刻機仍不可用，一定數量的DUV 光刻機也可以幫助中芯國際實現產能和收入的突破。
更何況全球晶圓短缺越來越嚴重。在這樣一個特殊的市場環(huán)境下，我們期待中芯國際給中國半導體行業(yè)帶來更多的驚喜。
行業(yè)資訊 
2021-03-16 18:16:57
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