中國(guó)有望解決光刻機(jī)“卡脖子”難題

2021-03-03 17:55:00

放眼全球制造業(yè)領(lǐng)域，光刻機(jī)，荷蘭ASML是第一巨頭。ASML以超過(guò)10億元的價(jià)格出售一輛EUV 光刻機(jī)，但即便如此，臺(tái)積電和三星仍將爭(zhēng)相購(gòu)買。

它不僅在市場(chǎng)份額上遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)其競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，而且ASML對(duì)其技術(shù)優(yōu)勢(shì)也很有信心。ASML曾威脅說(shuō)，即使EUV光刻機(jī)的畫公之于眾，也沒(méi)有哪個(gè)企業(yè)能夠自己制作。

這不是ASML的自夸，因?yàn)檫@是真的。EUV 光刻機(jī)集成了許多領(lǐng)域的尖端技術(shù)，其組件來(lái)自各個(gè)行業(yè)的頂級(jí)供應(yīng)商，因此組裝難度可想而知。

正因?yàn)槿绱耍熬奕思涯芎湍峥狄恢痹敢饬粼诤竺妫恢袊?guó)領(lǐng)先的光刻機(jī)，制造企業(yè)上海微電子只在28納米處征服了光刻機(jī)。

然而，這并不意味著中國(guó)愿意將核心技術(shù)掌握在外國(guó)公司手中。

中國(guó)有望解決光刻機(jī)“卡脖子”問(wèn)題

因此，2020年下半年，中科院公開(kāi)宣布，將聚集全醫(yī)院的力量，克服光刻機(jī)的制造問(wèn)題，幫助中國(guó)企業(yè)擺脫困境。

到目前為止，盡管沒(méi)有來(lái)自中科院，的好消息，清華大學(xué)已經(jīng)公布了最新的研究結(jié)果。據(jù)了解，這一成果有望解決光刻機(jī)問(wèn)題，使國(guó)產(chǎn)芯片在未來(lái)大有可為。

2月25日，清華大學(xué)，工程物理系教授唐傳祥，在國(guó)際權(quán)威期刊《Nature》上發(fā)表了關(guān)于論文新型粒子加速器光源“穩(wěn)微多束”的研究。

同時(shí)，清華大學(xué)官網(wǎng)也透露了好消息。

筆者了解到，這與一種全新的光刻機(jī)光源技術(shù)有關(guān)。

眾所周知，目前世界上只有美國(guó)和德國(guó)掌握了極紫外光源解決方案，ASML采用美國(guó)的解決方案。

但無(wú)論是美國(guó)還是德國(guó)的極紫外光源解決方案，都有兩大問(wèn)題：穩(wěn)定性和壽命。這是因?yàn)榉桨感枰粩嗉ぐl(fā)滴錫滴，錫是易揮發(fā)的。因此，提高光源的功率相對(duì)困難。

另一方面，清華大學(xué)和他的團(tuán)隊(duì)研究的方案是用可控電子束輻射極紫外光，而不是激發(fā)發(fā)光。

與美國(guó)的方案相比，清華大學(xué)的成功研究在理論上具有更高的穩(wěn)定性，并且更容易增加光源的功率。

如果這種解決方案最終能夠落地并商業(yè)化，那么中國(guó)制造的光刻機(jī)，就有可能在彎道超車，不再受美國(guó)限制。

但是在實(shí)現(xiàn)的過(guò)程中，可以說(shuō)是極其困難和危險(xiǎn)的。我相信，一旦國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)實(shí)現(xiàn)自主研發(fā)，未來(lái)國(guó)產(chǎn)芯片的可能性將是無(wú)限的。但在此之前，中國(guó)相關(guān)行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)依然嚴(yán)峻。