在今天的半導(dǎo)體工藝環(huán)境中，平均清洗間隔是限制刻蝕系統(tǒng)生產(chǎn)率提高的主要因素。為了保持穩(wěn)定的性能，通常需要每月甚至每周清潔一次刻蝕處理室，并更換被等離子體處理腐蝕的部件。4月，2020，泛林集團(tuán)及其客戶實(shí)現(xiàn)了一個(gè)雄心勃勃的目標(biāo)，實(shí)現(xiàn)了設(shè)備連續(xù)運(yùn)行365天，無(wú)需維護(hù)和清潔，創(chuàng)造了里程碑式的記錄。

泛林集團(tuán)刻蝕產(chǎn)品業(yè)務(wù)部高級(jí)副總裁兼總經(jīng)理瓦海德瓦赫迪說(shuō)：“這一突破性的成就表明，泛林集團(tuán)注重客戶合作，幫助客戶解決最具挑戰(zhàn)性的技術(shù)和生產(chǎn)力問(wèn)題。泛林集團(tuán)致力于提供符合工業(yè)4.0的技術(shù)，使芯片制造企業(yè)的生產(chǎn)過(guò)程更快、更準(zhǔn)確、更高效。這個(gè)新的行業(yè)基準(zhǔn)證明了自維護(hù)設(shè)備可以減少人工，提高生產(chǎn)效率。”

通常，刻蝕過(guò)程模塊需要定期維護(hù)和更換耗材。更換和清潔零件必須通過(guò)打開(kāi)腔室來(lái)完成。關(guān)閉試驗(yàn)箱時(shí)，需要重新驗(yàn)證試驗(yàn)箱環(huán)境，費(fèi)時(shí)費(fèi)力，不僅影響產(chǎn)量，還依賴于復(fù)雜的調(diào)度安排。通過(guò)自我維護(hù)解決方案，設(shè)備可以獨(dú)立決定更換零件的時(shí)間，并且可以在不打開(kāi)腔室的情況下自動(dòng)更換，從而減少設(shè)備的停機(jī)時(shí)間，提高工廠的生產(chǎn)效率。

泛林集團(tuán)的這個(gè)創(chuàng)新解決方案包括Kiyo？過(guò)程模塊，通過(guò)真空傳輸可更換邊緣環(huán)的Corvus。r系統(tǒng)、使用壽命更長(zhǎng)的腔室組件和優(yōu)化的自動(dòng)清洗技術(shù)，無(wú)需晶圓。其中，實(shí)現(xiàn)這種前所未有的生產(chǎn)力的關(guān)鍵在于Corvus  R系統(tǒng)，這是業(yè)界第一個(gè)可以自動(dòng)更換耗材的系統(tǒng)。長(zhǎng)期以來(lái)，邊緣環(huán)腐蝕一直存在于刻蝕過(guò)程中，需要經(jīng)常打開(kāi)試驗(yàn)箱更換零件。科爾維斯R不用打開(kāi)密室就能自動(dòng)更換新的邊緣環(huán)。